C60-20S 离子源系统虽然所有离子束都会溅射或蚀刻，但我们的一些系统的表面是专为高效和快速溅射而设计的。溅射光束有三个特点：高电流、大光斑尺寸和宽视场。这些特性的结合意味着它们可以在大面积上尽快输送大剂量的离子，以优化蚀刻速率。

GCIB-10S 离子源系统是一种高性能10千伏气体团簇离子束，用于快速、低损伤溅射和更高质量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括实时集群大小测量和内置样本电流成像系统，以帮助您充分利用实验。

GCIB-40 离子源系统是一种40 kV气体团簇离子束，产生团簇离子聚焦束，用于需要对分子离子敏感的分析应用。GCIB在较大程度地减少碎片和从表面去除完整分子方面具有单独的的能力。在40千伏电压下工作的GCIB 40提供了优异的电离产率，进一步增强了分子信号。

GCIB-70 离子源系统是一种70 kV高性能气体团簇离子束，可产生高度聚焦的团簇离子束，用于高分辨率成像SIM，具有没有可以比较的的灵敏度。在SIMS中使用气体团簇束的好处现在已得到充分证实；高质量团簇在溅射有机、生物和聚合物材料时非常有效，可以产生高产量的完整分子离子。